




pvd(physical vapor deition),在真空条件下,采用物理方法,使材料源表面气化成原子、分子或离子,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。pvd主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
蒸发镀膜
真空条件下,将镀料加热蒸发或升华,材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。
采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术,一般用于蒸发低熔点材料,如铝、金、银、---锌、---镁、三氧化二铬等;加热电阻一般采用钨、钼、钽等。
镀钛是作为金属材料的表面处理的一种工艺,现在已经在工业领域普遍应用并有逐渐推广使用的意向。
在二十世纪七十年代末,人类就已经开始物理气相沉积技术,即pvd技术。物理气相沉积技术可以应用在硬质膜的制造上,它能够提高产品的机械化学性能,使制造出的产品具有高耐磨性、高硬度等性能,还可以减轻摩擦作用。这种技术在刚开始使用时,就在---的工具制造业引起了---的反响,受到了高度重视。同时,这种技术工艺符合现代人们对环境无污染加工技术的要求,是一种---的技术。

此外,多弧镀涂层颜色较为稳定,处理不锈钢镀钛公司,尤其是在做 tin 涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法---。多弧镀的不足之处是,在用传统的 dc 电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3μm 时,沉积率与反射率接近,成膜变得非常困难。而且,薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是,由于金属是熔后蒸发,因此沉积颗粒较大,致密度低,耐磨性比磁控溅射法成膜差。

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