




基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了---膜层,压强应尽可能低pr≦(pa)
l表示蒸发源到基片的距离为l(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上---吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,金属镀钛厂家服务电话,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,金属镀钛厂家电话,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,商丘金属镀钛厂家,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.

可见,多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣,为了尽可能 地发挥它们各自的---性,实现互补,将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底,然后利用磁控溅射法增厚涂层,后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。
大约在八十年代中后期,金属镀钛厂家多少钱,出现了热阴极电子枪蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机,应用效果---,使tin 涂层刀具很快得到普及性应用。

现有镀膜工艺,多数均要求事先对工件进行严格清洗,既复杂又费事。离子镀的镀层组织致密、无、无气泡、厚度均匀。甚至棱面和凹槽都可均匀镀复,不致形成金属瘤。象螺纹一类的零件也能镀复,有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、---的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能

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