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真空镀膜室壁上单分子层所吸附的分子数ns与气相中分子数n的比值近似值。通常在常用的高真空系统中，其内表面上所吸附的单层分子数，远---过气相中的分子数。因此，除了蒸发源在蒸镀过程中所释放的气体外，在密封和抽气系统性能均---和清洁的真空系统中，若气压处于10-4pa时，从真空室壁表面上解吸出来的气体分子就是真空系统内的主要气体来源。真空下室壁单分子层所吸附的分子数与气相分子数之比分子数与气相分子数a-镀膜室的内表面积，cm2;v-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3 次数用完api key 超过次数---

随着---及新兴工业发展，物理气相沉积技术出现了不少新的---的亮点，如多弧离子镀与磁控溅射兼容技术，大型矩形长弧靶和溅射靶，非平衡磁控溅射靶，孪生靶技术，带状泡沫多弧沉积卷绕镀层技术，条状纤维织物卷绕镀层技术等，装饰镀钛加工价格，使用的镀层成套设备，向计算机全自动，大型化工业规模方向发展。第二节真空蒸镀(一)真空蒸镀原理(1)真空蒸镀是在真空条件下，将镀料加热并蒸发，使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。 次数用完api key 超过次数---

有70多种元素、50多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。溅射镀sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常为气体止离子)轰击靶材，使靶材表---分原子逸出的现象r.若把零件放在靶材附近酌适当位置上，则从靶材飞出的原子便会沉积到零件表面而形成镀层。它特另}l适用于高熔点金属、合金、半导体和各类化合物的镀覆二主要用于制备电子元件上所需的各种镀层。也可用来镀覆氮化钦仿金镀层和在切削刀具上镀覆氮化钦、碳化钦等硬质镀层，以提高其使用寿命和切削功能。 次数用完api key 超过次数---

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