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感应加热式蒸发镀膜

利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。

优点蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右  蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂

在真空中，高能粒子轰击材料表面，表面镀钛加工，使其原子获得足够的能量而逸出表面，商丘表面镀钛加工，到达衬底凝结成膜的技术。

与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。

但其工作气压低于蒸发镀膜，因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。

pvd是英文physical vapordeition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空---钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积形成不同颜色和---的薄膜。pvd膜层赋予产品表面金属---和丰富的颜色，并---耐磨、耐腐蚀性，---。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。