







感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定,不易产生飞溅现象坩埚温度较低,坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中,高能粒子轰击材料表面,使其原子获得足够的能量而逸出表面,到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比,溅射镀膜适用于所有(包括高熔点)材料,具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜,家具镀钛公司,因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。

可见,多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣,为了尽可能 地发挥它们各自的性,实现互补,将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底,然后利用磁控溅射法增厚涂层,后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。
大约在八十年代中后期,出现了热阴极电子蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机,处理镀钛公司,应用效果---,使tin 涂层刀具很快得到普及性应用。

较为成熟的 pvd 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,真空镀钛公司,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,洛阳镀钛公司,使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。

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