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磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法，由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点，因此获得了迅速的发展和广泛的应用.

1. 磁控溅射:

离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.

磁控溅射的基本原理:

磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场，处于正交电场区e和磁场b中的电子的运动方程，

直流二级离子镀，是稳定的辉光放电；空心阴极离子镀与热丝弧离子镀，是热弧光放电，产生电子的原因均可简单概括为金属材料由于被加热到---的温度，导致核外电子的热发射；阴极电弧离子镀的放电类型与前面几种离子镀的放电类型均不相同，阜阳装饰不锈钢镀钛，它采用的是冷弧光放电。在众多离子镀膜技术中阴极电弧离子镀可谓是其中的集大成者，其目前已经逐步发展为硬质薄膜领域的主力。



离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，因而凡是有电场存在的部位，均能获得---镀层，装饰不锈钢镀钛公司，这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层得多。因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝。等其他方法难镀的部位。用普通真空镀膜只能镀直射表面，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，装饰不锈钢镀钛价格，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。



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