pvd加工特点
1).pvd膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应行化学电镀铬，然后才适合镀pvd，但是水镀后做pvd容易起泡，---率较高；
2).典型的 pvd 涂层加工温度在 250 ℃—450 ℃之间；
3).涂层种类和厚度决定工艺时间，一般工艺时间为 3~6 小时；
4).pvd镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀钛选，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工；
离子镀技术早由d. m. mattox于1963年提出并付诸实践的。其原理是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其他反应物镀在基片上的工艺。
根据膜层粒子的获得方式，离子镀可分为蒸发型离子镀和溅射型离子镀，其中蒸发型离子镀根据放电原理不同又可分为直流二级型离子镀、热丝弧离子镀、空心阴极离子镀以及热阴极离子镀等。
点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，商丘市镀钛选，热
缺点电子结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高---适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜
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