







pvd是英文physical vapordeition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空---钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积形成不同颜色和---的薄膜。pvd膜层赋予产品表面金属---和丰富的颜色,并---耐磨、耐腐蚀性,---。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。

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射频溅射
采用射频电源代替直流电源,在靶和衬底间施加高频电压,溅射时,靶极会产生自偏压效应(即靶极会自动处于负电位状态),使绝缘靶的溅射得到维持。常用的频率约为13.56兆赫。
优点可以溅射所有材料,包括导体和绝缘体溅射可---生产
磁控溅射
磁控溅射通过在靶阴极表面引入正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面,成螺旋状运行来增强电离效率,增加离子密度和能量以增加溅射率。电源方面可同时配备直流和射频两种。

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