







与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数pvd方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。ionbond 阴极电弧pvd涂层技术在20世纪70年代后期由---发明,商丘镀钛,如今,绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度:典型的pvd涂层加工温度在250℃— 450℃之间,但在有些情况下依据应用领域和涂层的,pvd涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。

增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,镀钛选,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(fca )配有的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为,并且可以过滤掉大颗粒,镀钛, 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。

电弧蒸发镀膜
在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电,利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等
缺点
会飞溅出微米级的靶材料颗粒,影响薄膜
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
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