郑州镀钛选-金常来镀钛-镀钛选

离子镀

在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离，处理镀钛选，克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷，高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击---了薄膜的附着力和，金属镀钛选，是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的pvd技术。

根据离化方式的不同，常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。

蒸发源接阳极，郑州镀钛选，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性气，在放电电场作用下部分气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，镀钛选，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。



带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。

pvd技术四个工艺步骤

(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；

(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。

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