







现有镀膜工艺,多数均要求事先对工件进行严格清洗,既复杂又费事。然而,离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用,并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果,能使镀层直接贴近基体,有效地增强了附着力,简化了大量的镀前清洗工作。离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面,使大量的电能在工件表面转换成热能,从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。

pvd真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层:
装饰膜层可以---工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀;硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性,金属表面镀钛多少钱,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命。
除油—去污—流水冲洗—去离子水冲洗—脱水
过清洗线后将工件挂到pvd治具上,金属表面镀钛报价,放入烤箱烘烤干燥

离子镀
在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离,克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷,金属表面镀钛服务,高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击---了薄膜的附着力和,是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的pvd技术。
根据离化方式的不同,常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。

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